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J-GLOBAL ID：201802289384994043   整理番号：18A0849605

標準的なアライナを用いたVierical側壁のパターン形成【JST・京大機械翻訳】

Patterning viertical sidewall using standard aligner

著者 (4件)： Wasa Kenji (Tecdia Incorporated, Tokyo, Japan) ,  Saito Shigenori (Aicello Corporation, Toyohashi, Japan) ,  Sahara Fumitaka (Aicello Corporation, Toyohashi, Japan) ,  Sasaki Minoru (Toyota Technological Institute, Nagoya, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： MEMS  ページ： 475-478  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 垂直側壁をパターン形成するための新しい方法を提案した。ポリビニルアルコール(PVA)とフォトレジスト層からなる膜を新たに紹介した。この膜は,ブリッジを作るトレンチを持つ基板上に貼付される。転写されたパターンはトレンチを覆うカンチレバーである。次に,PVAを水中に溶解し,レジストを開発した。リンス水が乾燥すると,片持梁は垂直側壁に曲がり,接着する。調べた最小パターン幅は10μmである。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 片持梁 ,  *パターン形成 ,  レジスト
準シソーラス用語： リンス ,  トレンチ ,  *アライナ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 標準 ,  アライナ ,  側壁 ,  パターン形成