位置計測装置、アライメント装置、パターン描画装置および位置計測方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：振角正一 , 大西一正
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-197765
公開番号（公開出願番号）：特開2015-064461
特許番号：特許第6223091号
出願日： 2013年09月25日
公開日（公表日）： 2015年04月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光学ヘッドから基板に照射される光ビームに対する前記基板の位置を計測する位置計測装置であって、前記基板のうち前記光ビームの有効ビーム径よりも大きく前記光ビームに対して透過性を有する第1透過部と、前記第1透過部を通過する前記光ビームとを同一視野内で撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像された画像に基づいて前記光ビームに対する前記基板の位置を求める位置導出部とを備え、前記撮像部の視野は前記第1透過部よりも大きく、前記画像には前記第1透過部の像および前記光ビームの像が存在することを特徴とする位置計測装置。

IPC (3件)：