特許

J-GLOBAL ID：201803000670805730

光学基板の平坦化

発明者： シュトルツ, クリストファー, ジェイ. ,  フォルタ, ジェームズ, エー. ,  ミルカリミ, ポール, ビー. ,  ソウフリ, レジーナ ,  ウォルトン, クリストファー, シー. ,  ウルフ, ジャスティン, イー. ,  メノーニ, カルメン ,  パテル, ディネッシュ
出願人/特許権者： ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー, エルエルシー
代理人 (2件)： 岡部 憲昭 ,  穐場 仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-536757
特許番号：特許第6329157号
出願日： 2013年01月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 少なくとも1つの結節性の欠陥を基板表面に有する光学的構成要素を作成する方法であって、 サイズが1ミクロンから2ミクロンの範囲内である前記結節性の欠陥上に平坦化層を堆積させるステップと、 前記平坦化層上にイオンビームエッチング可能な層を堆積させるステップと、 前記イオンビームエッチング可能な層の一部をエッチング除去するステップと、 前記イオンビームエッチング可能な層上に金属酸化物の層を堆積させるステップと、 前記結節性の欠陥のサイズが小さくなるように、イオンビームエッチング可能な層を堆積させる前記ステップ、前記イオンビームエッチング可能な層の一部をエッチング除去する前記ステップ、及び前記金属酸化物の層を堆積させる前記ステップを繰り返すステップと、 を含む、方法。

IPC (4件)：

G02B 5/08 ( 200 6.01) ,  C23C 14/08 ( 200 6.01) ,  C23C 14/10 ( 200 6.01) ,  C23C 14/58 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G02B 5/08 C ,  C23C 14/08 N ,  C23C 14/08 F ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/58 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 多層反射膜付き基板、その製造方法、反射型マスクブランクおよび反射型マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-300672   出願人：HOYA株式会社
• 凹面反射鏡の作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-300591   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 特開平2-192189
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Using engineered nodules to study laser-induced damage in optical thin films with nanosecond pulses