多層反射膜付き基板、その製造方法、反射型マスクブランクおよび反射型マスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-300672
公開番号（公開出願番号）：特開2007-109971
出願日： 2005年10月14日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】 EUV光などの短波長域の露光光を使用するリソグラフィー法において用いられる反射型マスク用として好適な、表面平滑性が高く、欠陥の少ない多層反射膜付き基板を提供する。【解決手段】基板上に、Mo/Siの交互積層膜からなる多層下地膜および露光光を反射するMo/Siの交互積層膜からなる多層反射膜を順次設けてなる多層反射膜付き基板であって、前記多層下地膜が、成膜後150〜500°Cの温度で加熱処理されたものである多層反射膜付き基板である。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板上に、Mo/Siの交互積層膜からなる多層下地膜および露光光を反射するMo/Siの交互積層膜からなる多層反射膜を順次設けてなる多層反射膜付き基板であって、前記多層下地膜が、成膜後、加熱処理されたものであることを特徴とする多層反射膜付き基板。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G21K 1/06 , G02B 5/08 , C23C 14/46

FI (8件)：

H01L21/30 531M , G03F1/16 A , G21K1/06 D , G21K1/06 B , G21K1/06 C , G02B5/08 A , G02B5/08 C , C23C14/46

Fターム (23件)：

2H042DA08 , 2H042DA12 , 2H042DB02 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BB27 , 2H095BC27 , 4K029AA09 , 4K029BA11 , 4K029BA35 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD09 , 4K029CA05 , 4K029DC03 , 4K029DC16 , 4K029DC37 , 5F046GD03 , 5F046GD10 , 5F046GD16 , 5F046GD20

引用特許：

出願人引用 (2件)

反射型X線マスク及びその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-016698 出願人：株式会社ニコン
多層緩衝層使用のレチクルにおける基板欠陥の軽減
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-542276 出願人：ザリージェンツオブザユニヴァーシティーオブカリフォルニア

審査官引用 (25件)

多層緩衝層使用のレチクルにおける基板欠陥の軽減
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-542276 出願人：ザリージェンツオブザユニヴァーシティーオブカリフォルニア
特開平1-173716
特開平3-041399

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