特許
J-GLOBAL ID:201803000754663893
高出力インパルスコーティング方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-520840
特許番号:特許第6271533号
出願日: 2013年06月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ターゲット材料のスパッタによってコーティングされるべき基板表面を備える基板をコーティングする方法において、次の各ステップが含まれており、
コーティング室の中で第1の材料からなる第1のスパッタターゲットが第1の出力パルスによって負荷され、該出力パルスによって第1の時間インターバル中に第1のエネルギー量が前記スパッタターゲットに転移され、その際に最大の出力密度は500W/cm2を超えており、
前記コーティング室の中で前記第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2のスパッタターゲットが第2の出力パルスによって負荷され、該出力パルスによって第2の時間インターバル中に第2のエネルギー量が前記スパッタターゲットに転移され、その際に最大の出力密度は500W/cm2を超えている、そのような方法において、
コーティングされるべき前記基板表面へ混合結晶層を塗布するために、それぞれのターゲット材料に割り当てられるパルス時間は、互いに独立してそれぞれの作業点に関して調整されるように少なくとも前記第1および前記第2のスパッタターゲットが操作され、前記第1のエネルギー量は前記第2のエネルギー量と相違していることを特徴とする方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
光記録媒体と光記録媒体の製造方法および製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-164917
出願人:松下電器産業株式会社
-
被覆物
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-505793
出願人:コムコン・アーゲー
-
PVD被膜形成方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2010-510742
出願人:サンドビックインテレクチュアルプロパティーアクティエボラーグ
全件表示
審査官引用 (5件)
-
被覆物
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-505793
出願人:コムコン・アーゲー
-
HIPIMSによる反応性スパッタリング
公報種別:公表公報
出願番号:特願2010-536473
出願人:オーツェー・エリコン・バルザース・アーゲー
-
刃の薄膜コーティング
公報種別:公表公報
出願番号:特願2010-516632
出願人:ザジレットカンパニー
全件表示
前のページに戻る