特許
J-GLOBAL ID：201803001515702000

インプリントモールド、インプリントモールドの製造方法、及びパターン形成方法

発明者：
相馬 宗尚

相馬 宗尚 について

, 
鈴木 学

鈴木 学 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 小笠原特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-259153
公開番号（公開出願番号）：特開2015-112865
特許番号：特許第6260252号
出願日： 2013年12月16日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の一方の面に形成された第1の凹凸パターン領域及び第2の凹凸パターン領域を備え、前記第1の凹凸パターン領域及び前記第2の凹凸パターン領域を転写基板上の転写材料に型押しすることで前記転写材料に前記第1の凹凸パターン領域及び前記第2の凹凸パターン領域に形成されたパターンに対応する転写パターンを形成するインプリントモールドであって、 前記第1の凹凸パターン領域には、複数の第1の凹部により構成される第1の凹凸パターンが形成され、 前記第2の凹凸パターン領域には、深さが前記第1の凹部と同じである複数の第2の凹部により構成される第2の凹凸パターンと、深さが前記第1の凹部よりも浅い複数の第3の凹部により構成される補助パターンとが形成され、 前記第2の凹凸パターン領域における前記第2の凹凸パターンは、前記第1の凹凸パターン領域における前記第1の凹凸パターンよりも疎であり、 前記第1の凹凸パターン領域及び前記第2の凹凸パターン領域を前記転写材料に型押ししたときに、前記転写基板上に形成された前記第1の凹部、前記第2の凹部及び前記第3の凹部に対応する転写パターン以外の部分からなる残膜層が均一となるように、前記補助パターンの前記第3の凹部に前記転写材料の一部が収容され、 前記第3の凹部の開口寸法及び深さは、前記第1の凹部及び前記第2の凹部に収容される前記転写材料の体積に基づいて定められることを特徴とする、インプリントモールド。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B29C 59/02 B ,  H01L 21/30 502 D
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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