特許
J-GLOBAL ID:201803001536272129
多孔性高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 福地 律生
, 小林 良博
, 出野 知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-050453
公開番号(公開出願番号):特開2018-154563
出願日: 2017年03月15日
公開日(公表日): 2018年10月04日
要約:
【課題】優れたガス吸着特性を有する2次元積層型の多孔性高分子金属錯体及びその前駆体を提供する。【解決手段】式(1):{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n(式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。この前駆体は、粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記式(1):
{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n
(式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子であり、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体であって、
粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。
IPC (4件):
C07F 1/08
, C07F 5/02
, B01J 20/26
, B01J 20/30
FI (4件):
C07F1/08 Z
, C07F5/02 Z
, B01J20/26 A
, B01J20/30
Fターム (26件):
4G066AA04D
, 4G066AA05D
, 4G066AA32A
, 4G066AA56A
, 4G066AB10A
, 4G066AB12A
, 4G066AB13A
, 4G066AB24A
, 4G066AC11B
, 4G066BA05
, 4G066BA12
, 4G066BA28
, 4G066BA36
, 4G066CA27
, 4G066CA35
, 4G066DA01
, 4G066DA04
, 4G066FA03
, 4G066FA05
, 4G066FA11
, 4G066FA21
, 4G066FA40
, 4H048AA01
, 4H048AB80
, 4H048VA55
, 4H048VA75
引用特許:
引用文献:
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