特許

J-GLOBAL ID：201803001965673069

サイフォン式散気管、膜分離活性汚泥装置、水処理方法

発明者： 李 胤制 ,  田中 利典
出願人/特許権者： 三菱ケミカル株式会社
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-224675
公開番号（公開出願番号）：特開2018-079442
出願日： 2016年11月18日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
要約：

【課題】気泡のサイズや間欠時間を調整することができるサイフォン式散気管を提供する。【解決手段】間欠的に曝気を行うサイフォン式散気管であって、空気を貯留する第一サイフォン室および第二サイフォン室を含むサイフォン室と、第一サイフォン室および第二サイフォン室と連通している連通部と、サイフォン室の下流に設けられた散気穴と、サイフォン室に空気を供給する空気供給手段と、サイフォン室から散気穴に至る経路のうち、サイフォン室および連通部に面しない部分に設けられた開口部の開口量を調整可能な調整機構と、を備えたサイフォン式散気管。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

間欠的に曝気を行うサイフォン式散気管であって、 空気を貯留する第一サイフォン室および第二サイフォン室を含むサイフォン室と、 前記第一サイフォン室および第二サイフォン室と連通している連通部と、 前記サイフォン室の下流に設けられた散気穴と、 前記サイフォン室に前記空気を供給する空気供給手段と、 前記サイフォン室から前記散気穴に至る経路のうち、前記サイフォン室および前記連通部に面しない部分に設けられた開口部の開口量を調整可能な調整機構と、を備えたサイフォン式散気管。

IPC (7件)：

C02F 3/20 ,  B01D 65/02 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/06 ,  B01F 15/02

FI (9件)：

C02F3/20 Z ,  B01D65/02 520 ,  C02F1/44 F ,  C02F1/44 C ,  C02F3/12 S ,  B01F3/04 A ,  C02F3/12 J ,  B01F5/06 ,  B01F15/02 A

Fターム (45件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA77 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31A ,  4D006KA31 ,  4D006KA43 ,  4D006KA44 ,  4D006KB22 ,  4D006KC02 ,  4D006KC14 ,  4D006KE06P ,  4D006KE12P ,  4D006KE30Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MC03 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D006PC67 ,  4D028BC03 ,  4D028BC17 ,  4D028BC24 ,  4D028BD17 ,  4D028CA09 ,  4D028CC07 ,  4D028CD00 ,  4D029AA01 ,  4D029AB05 ,  4G035AB07 ,  4G035AC06 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13 ,  4G037AA01 ,  4G037EA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜分離活性汚泥処理装置及び膜分離活性汚泥処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-126563   出願人：日本下水道事業団, 株式会社日立製作所, 株式会社日立プラントサービス
• 膜分離装置の運転方法及び膜分離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-072917   出願人：株式会社クボタ