特許
J-GLOBAL ID：201803002139678964

液体媒質に浸された回折物体の光学的特性を復元する方法、及びシステム

発明者：
セドリック アリエル

セドリック アリエル について

, 
スリカントゥ ビンジモール ケサバン

スリカントゥ ビンジモール ケサバン について


出願人/特許権者：
コミサリヤ ア レネルジ アトミク エ ウ エネルジ アルタナティブ

コミサリヤ ア レネルジ アトミク エ ウ エネルジ アルタナティブ について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  島田 哲郎 ,  三橋 真二 ,  前島 一夫 ,  廣瀬 繁樹 ,  田原 正宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-521014
特許番号：特許第6298049号
出願日： 2013年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 空間的にコヒーレントな光源(26)と、マトリックス型光検出器(28)とを備える復元システム(20)を使用して、液体媒質(24)に浸された回折物体(22)の光学的特性を復元し、前記液体媒質(24)が透明な面(42)により区切られており、前記回折物体(22)が透明な面(42)に接触している復元方法であって、以下の、 - 前記空間的にコヒーレントな光源(26)を用いて前記媒質(24)に光照射するステップ(100)と、 - 前記マトリックス型光検出器(28)を用いて、鉛直方向(Z)に光照射を受けた前記媒質(24)を透過した少なくとも一つの回折パターンの強度(I)を測定するステップ(110)であって、前記又は各回折パターンは、前記媒質(24)に光照射する間に一つ又は複数の前記回折物体(22)によって回折した波に対応している、ステップと、 - 復元高さ(Zr)において、前記物体(22)の光学的特性を、復元アルゴリズムに従って、前記少なくとも一つの回折パターンの測定強度(I)に基づき復元するステップ(120)と、を含み、 前記復元高さ(Zr)は、前記鉛直方向(Z)に沿った前記液体媒質(24)と前記マトリックス型光検出器(28)との間の距離(D2)とは異なる前記復元アルゴリズムのパラメータであり、 前記復元ステップ(120)の間、前記復元高さ(Zr)が、前記鉛直方向(Z)に沿った、前記液体媒質(24)と前記マトリックス型光検出器(28)との間の距離(D2)より小さくなるように選択された値を有する、方法。
IPC (1件)：
G01N 21/27 ( 200 6.01)
FI (1件)：
G01N 21/27 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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