特許
J-GLOBAL ID：201003043824696494

粒度測定装置及び粒度測定方法

発明者：
橋口 昇平

橋口 昇平 について


出願人/特許権者：
新日本製鐵株式会社

新日本製鐵株式会社 について


代理人 (4件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司 ,  松本 一騎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-185731
公開番号（公開出願番号）：特開2010-025663
出願日： 2008年07月17日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：
【課題】被測定物の粒度を三次元測定に基づいて測定できる粒度測定装置および粒度測定装置を提供する。【解決手段】波源1から出射された可干渉ビームを、物体6への照射波2aと参照波2cに分岐し、被測定面からの拡散反射波である物体波2bと参照波2cを干渉させるホログラフィ干渉系を構築し、撮像面10aで観測された参照波2cと物体波2bとの干渉縞を観測し、デジタルホログラフィによる再生計算にて物体像を再生する。二波長でそれぞれ記録し再生した物体像の位相差をとり、等高線間隔を拡大した後、位相接続にて被測定面の表面形状を復元する。物体像の振幅の大きさにより被測定面を構成する粒子の内部領域の座標を抽出し、個々の粒子の粒径を演算する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
粒状の物質からなる被測定物に可干渉なビームを照射し、その反射光と参照光との干渉縞をカメラで撮像してホログラム画像を得て、該ホログラム画像から前記被測定物の形状データを導出して、該形状データから被測定物の粒度を調べる粒度測定装置であって、 前記可干渉なビームを出射する光源手段と、 前記可干渉なビームを分岐し、一方のビームを前記被測定物の表面に照射し、他方のビームである参照波と、前記一方のビームが前記被測定物の表面で拡散反射した物体波とを干渉させて干渉縞を生成するホログラム生成用干渉光学系と、 前記干渉縞を撮像してホログラムの画像データを出力する撮像手段と、 前記ホログラムの画像データを用いて、回折計算の逆変換演算によって前記被測定物の表面の凹凸情報を含む復元データを算出し、該復元データに基づき前記被測定物の粒度を導出するデータ処理手段と、 からなることを特徴とする、粒度測定装置。
IPC (2件)：
G01N 15/02 ,  G03H 1/04
FI (2件)：
G01N15/02 C ,  G03H1/04
Fターム (3件)：
2K008AA06 ,  2K008HH14 ,  2K008HH28
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 特公昭56-9644号公報
  • 特開昭54-65059号公報
  • 炉頂装入レベル監視システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-019649   出願人：横河電機株式会社, 日新製鋼株式会社
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審査官引用 (10件)
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