レーザ熱分解によって多層サブミクロン粒子を製造する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山口健次郎 , 長山弘典 , 森田憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-030424
公開番号（公開出願番号）：特開2018-138510
出願日： 2018年02月23日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
要約：

【課題】粒子を製造する方法の改善。【解決手段】第1の化学元素(典型的には、ケイ素)を含み、流れの方向(11)に進む少なくとも1つの反応流(1)を、反応チャンバへと導入するステップと、各々の反応流(1)に反応流ごとに1つの相互作用領域(14)において交わるように反応チャンバを通って放射線ビーム(3)を投射し、各々の反応流において第1の化学元素を含む粒子コアを形成するステップと、各々の反応流(1)と相互作用する第2の化学元素(例えば、炭素)を反応チャンバへと導入し、粒子コアを第2の化学元素を含む層で覆うステップとを含む方法であって、各々の反応流(1)は、第1の化学元素を酸化する物質を含まず、単位時間あたりに導入される第2の元素1つにつき、単位時間あたりに導入される第1の元素の原子が少なくとも2つという比であり、第2の元素は、少なくとも1つの閉じ込め流(2)にて導入される方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第1の化学元素としてのケイ素を含んでおりそして流れの方向(11)に沿って進む少なくとも1つの反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)を、反応チャンバ(8)へと導入するステップと、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)に反応流ごとに1つの相互作用ゾーン(14)において交わる放射線ビーム(3)を、前記反応チャンバ(8)を通って投射し、各々の反応流において前記第1の化学元素を含む粒子コア(15)を形成するステップと、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)と相互作用する第2の化学元素を前記反応チャンバ(8)へと導入し、前記粒子コア(15)を前記第2の化学元素を含む層(16)で覆うステップとを含んでおり、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)は、前記第1の化学元素を酸化する物質を欠いており、そして前記粒子コア(15)は、前記第1の化学元素を非酸化の形態で含んでおり、導入される前記第2の元素の原子の数は、導入される前記第1の元素の原子の数に対して、単位時間あたりに導入される前記第2の元素の原子1つにつき単位時間あたりに導入される前記第1の元素の原子が少なくとも2つという比であり、前記第2の化学元素は、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)を囲むガス流(2;7)にて前記チャンバ(8)へと導入される、粒子(10)を製造する方法であって、前記第2の化学元素が、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)を囲む閉じた曲線に沿って分布したいくつかの点(17)から放射されてそして各々の反応流の方向に進む各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)を囲む周囲のガス流(7)にて前記チャンバ(8)へと導入され、該第2の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン(14)の後で前記周囲のガス流(7)にて前記チャンバ(8)へと導入され、及び/または当該方法が、各々の反応流(1、100、101、102、103、104、105、106)を囲み、そして前記流れの方向(11)に沿って進む閉じ込めガス流(2)を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン(14)の手前において前記反応チャンバ(8)へと導入するステップをさらに含み、前記第2の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン(14)の手前において前記閉じ込めガス流(2)にて前記チャンバ(8)へと導入されることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C01B 33/029 , B01J 19/12 , C23C 16/48 , C23C 16/26

FI (4件)：

C01B33/029 , B01J19/12 H , C23C16/48 , C23C16/26

Fターム (42件)：

4G072AA01 , 4G072BB05 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072DD07 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072GG04 , 4G072GG05 , 4G072HH04 , 4G072JJ47 , 4G072LL03 , 4G072LL05 , 4G072MM01 , 4G072QQ09 , 4G072RR01 , 4G072RR11 , 4G072RR17 , 4G072RR26 , 4G072TT01 , 4G075AA27 , 4G075BA04 , 4G075BD03 , 4G075BD14 , 4G075BD24 , 4G075CA02 , 4G075CA38 , 4G075CA63 , 4G075DA02 , 4G075EA05 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075EC01 , 4G075EC02 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030BA29 , 4K030CA18 , 4K030EA03 , 4K030EA04 , 4K030FA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

シリコン二次粒子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-129070 出願人：株式会社マステック
発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-071644 出願人：学校法人東京電機大学
レーザ熱分解の作用によるナノ又はサブミクロン粉体の連続流生成システム及び方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-543804 出願人：コミッサリアタレネルジーアトミーク

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