特許
J-GLOBAL ID：200903032967183738

発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子とその製造方法

発明者：
佐藤 慶介

佐藤 慶介 について

, 
平栗 健二

平栗 健二 について

, 
松本 哲矢

松本 哲矢 について


出願人/特許権者：
学校法人東京電機大学

学校法人東京電機大学 について


代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏 ,  永坂 友康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-071644
公開番号（公開出願番号）：特開2007-246329
出願日： 2006年03月15日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】高輝度でかつ安定的に蛍光発光する劣化防止保護膜を被覆した発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子と、その製造方法を提供する。【解決手段】紫外光線又は可視光線を照射することにより蛍光発光する粒子サイズ3.5nm以下のナノシリコン粒子を劣化防止保護膜で被覆したことを特徴とする発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子であり、基板上に塗布したナノシリコン粒子の表面に、高周波プラズマCVD法により、劣化防止保護膜を被覆して製造する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
紫外光線又は可視光線を照射することにより蛍光発光する粒子サイズ3.5nm以下のナノシリコン粒子を劣化防止保護膜で被覆したことを特徴とする発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子。
IPC (5件)：
C01B 33/02 ,  C23C 16/27 ,  C23C 16/505 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/59
FI (5件)：
C01B33/02 Z ,  C23C16/27 ,  C23C16/505 ,  C09K11/08 G ,  C09K11/59
Fターム (25件)：
4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072DD07 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072JJ02 ,  4G072LL11 ,  4G072NN13 ,  4G072RR25 ,  4G072TT30 ,  4G072UU03 ,  4H001CA02 ,  4H001CC01 ,  4H001CC09 ,  4H001XA14 ,  4K030AA10 ,  4K030BA27 ,  4K030BA28 ,  4K030CA04 ,  4K030CA18 ,  4K030FA01 ,  4K030JA18 ,  4K030LA18 ,  4K030LA24
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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