特許
J-GLOBAL ID：201803002874862426

モザイク荷電膜の製造方法及びモザイク荷電膜

発明者：
比嘉 充

比嘉 充 について


出願人/特許権者：
国立大学法人山口大学

国立大学法人山口大学 について


代理人 (9件)： 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  東海 裕作 ,  松田 一弘 ,  堀内 真 ,  山内 正子 ,  園元 修一 ,  山村 昭裕 ,  森川 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-144294
公開番号（公開出願番号）：特開2018-012084
出願日： 2016年07月22日
公開日（公表日）： 2018年01月25日
要約：
【課題】電解質の透過流束や電解質選択透過性が大きく、機械的強度に優れたモザイク荷電膜の製造方法及びモザイク荷電膜を提供することにある。【解決手段】(1)正荷電基又は負荷電基を有する高分子膜にイオンビームを照射する工程、及び(2)前記イオンビームを照射した箇所に、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を有するモノマーをグラフト重合する、あるいは前記イオンビームを照射した箇所に、正荷電基又は負荷電基を化学反応により導入可能な反応基を有するモノマーをグラフト重合し、その後、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を導入する工程、を含む工程によりモザイク荷電層を形成することを特徴とするモザイク荷電膜の製造方法。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
(1)正荷電基又は負荷電基を有する高分子膜にイオンビームを照射する工程、及び (2)前記イオンビームを照射した箇所に、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を有するモノマーをグラフト重合する、あるいは前記イオンビームを照射した箇所に、正荷電基又は負荷電基を化学反応により導入可能な反応基を有するモノマーをグラフト重合し、その後、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を導入する工程、 を含む工程によりモザイク荷電層を形成することを特徴とするモザイク荷電膜の製造方法。
IPC (2件)：
B01D 69/02 ,  B01D 69/12
FI (2件)：
B01D69/02 ,  B01D69/12
Fターム (26件)：
4D006GA13 ,  4D006MA06 ,  4D006MA15 ,  4D006MA31 ,  4D006MB01 ,  4D006MB02 ,  4D006MB16 ,  4D006MB20 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC30 ,  4D006MC33 ,  4D006MC47 ,  4D006MC54 ,  4D006MC55 ,  4D006MC73 ,  4D006MC74X ,  4D006MC75 ,  4D006MC78 ,  4D006NA32 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB03 ,  4D006PC11 ,  4D006PC42
引用特許：
審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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