特許
J-GLOBAL ID：201803003228039840

高速誘導溶解炉の溶解制御方法

発明者：
五十嵐 吉幾

五十嵐 吉幾 について

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岩清水 康二

岩清水 康二 について

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池 浩之

池 浩之 について


出願人/特許権者：
北芝電機株式会社

北芝電機株式会社 について

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地方独立行政法人 岩手県工業技術センター

地方独立行政法人 岩手県工業技術センター について


代理人 (1件)： 特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-121488
公開番号（公開出願番号）：特開2017-228348
出願日： 2016年06月20日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】被加熱材を短時間に高速溶解させた際にも合金の品質低下を抑制することができる高速誘導溶解炉の溶解制御方法を提供する。【解決手段】高速誘導溶解炉の溶解制御方法は、加熱コイル61に印加される印加電力Pおよび周波数fを、(1)前記被加熱材の溶湯撹拌力Fを、溶湯表面の被膜が溶湯中に巻き込まれない第1条件と、(2)前記周波数fを、前記被加熱材の溶湯表面の飛散を抑制する第2条件と、(3)前記周波数fを、前記炉壁の自己加熱を抑制する第3条件とを満たすように、(4)溶湯撹拌力Fを少なくとも前記印加電力Pと前記周波数fとを含む関係式として規定した第4条件を用いて算出するものである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
炉壁の外周に設けられた加熱コイルに電力供給手段を介して高周波電力を供給することにより炉内に収納された被加熱材を短時間に高速溶解させる高速誘導溶解炉の溶解制御方法であって、 前記加熱コイルに印加される印加電力Pおよび周波数fを、 (1)前記被加熱材の溶湯撹拌力Fを、溶湯表面の被膜が溶湯中に巻き込まれない第1条件と、 (2)前記周波数fを、前記被加熱材の溶湯表面の飛散を抑制する第2条件と、 (3)前記周波数fを、前記炉壁の自己加熱を抑制する第3条件と を満たすように、 (4)溶湯撹拌力Fを少なくとも前記印加電力Pと前記周波数fとを含む関係式として規定した第4条件を用いて算出することを特徴とする高速誘導溶解炉の溶解制御方法。
IPC (4件)：
H05B 6/06 ,  H05B 6/18 ,  F27D 11/06 ,  F27B 14/20
FI (5件)：
H05B6/06 381 ,  H05B6/06 383 ,  H05B6/18 ,  F27D11/06 A ,  F27B14/20
Fターム (21件)：
3K059AA02 ,  3K059AB16 ,  3K059AC03 ,  3K059AC07 ,  3K059AC12 ,  3K059AD05 ,  3K059CD03 ,  4K046AA01 ,  4K046BA02 ,  4K046CD02 ,  4K046CD20 ,  4K046EA01 ,  4K063AA04 ,  4K063AA12 ,  4K063BA03 ,  4K063CA03 ,  4K063FA34 ,  4K063FA36 ,  4K063FA38 ,  4K063FA43 ,  4K063FA48
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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