特許
J-GLOBAL ID:201803004787485074

セメント瓦の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 関口 正夫 ,  仲野 孝雅 ,  飯野 陽一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-256842
公開番号(公開出願番号):特開2015-113260
特許番号:特許第6328920号
出願日: 2013年12月12日
公開日(公表日): 2015年06月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 セメント瓦と、該セメント瓦の表面に形成された下塗り層(A)と、該下塗り層(A)の表面に形成された印刷層(B)と、該印刷層(B)の表面又は該下塗り層(A)及び該印刷層(B)の表面に形成された表面保護層(C)とを備えるセメント瓦の製造方法であって、 一次養生セメント瓦の表面に下塗り層(A)を形成させる第1の工程と、 第1の工程より得られた一次養生セメント瓦を120〜200°Cの温度で且つ飽和水蒸気圧力下で5〜12時間二次養生させる第2の工程と、 第2の工程より得られたセメント瓦の下塗り層(A)の表面に印刷層(B)をインクジェット方式により形成させ、該印刷層(B)の表面又は該下塗り層(A)及び該印刷層(B)の表面に表面保護層(C)を形成させる第3の工程と を含み、 前記下塗り層(A)が、シクロヘキシルメタクリレートと該シクロヘキシルメタクリレート以外の重合性不飽和単量体とを重合させて得られる、アクリル樹脂のエマルションを含む水系塗料を塗装して形成され、且つ前記下塗り層(A)のゲル分率が50質量%以上であることを特徴とするセメント瓦の製造方法。
IPC (4件):
C04B 41/63 ( 200 6.01) ,  C04B 41/64 ( 200 6.01) ,  C04B 41/71 ( 200 6.01) ,  E04F 13/14 ( 200 6.01)
FI (4件):
C04B 41/63 ,  C04B 41/64 ,  C04B 41/71 ,  E04F 13/14 102 A
引用特許:
審査官引用 (7件)
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