特許
J-GLOBAL ID:201803004846313002

排ガス処理装置及び排ガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-071904
公開番号(公開出願番号):特開2018-171584
出願日: 2017年03月31日
公開日(公表日): 2018年11月08日
要約:
【課題】本発明は、オゾンガスをNOガス酸化反応に効率よく利用することができ、排ガス処理の脱硝効率を向上させることができる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】本発明の排ガス処理装置は、NOxを含む排ガスが流れるように設けられた排ガス流路と、第1噴霧ノズルとを備え、第1噴霧ノズルは、前記排ガス流路中に冷却水を噴霧し第1ミストを形成するように設けられた少なくとも1つの噴霧孔と、第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンガスを供給するように設けられたオゾン噴出口とを備え、少なくとも1つの噴霧孔は、前記オゾン噴出口にオゾンガスを供給するオゾンガス流路又は前記オゾン噴出口を囲むように配置されたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
NOxを含む排ガスが流れるように設けられた排ガス流路と、第1噴霧ノズルとを備え、 第1噴霧ノズルは、前記排ガス流路中に冷却水を噴霧し第1ミストを形成するように設けられた少なくとも1つの噴霧孔と、第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンガスを供給するように設けられたオゾン噴出口とを備え、 少なくとも1つの噴霧孔は、前記オゾン噴出口にオゾンガスを供給するオゾンガス流路又は前記オゾン噴出口を囲むように配置されたことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5件):
B01D 53/56 ,  B01D 53/78 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/50 ,  B05B 7/06
FI (5件):
B01D53/56 ,  B01D53/78 ,  B01D53/18 150 ,  B01D53/50 ,  B05B7/06
Fターム (41件):
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002DA51 ,  4D002EA03 ,  4D002EA05 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB05 ,  4D002HA01 ,  4D020AA05 ,  4D020AA06 ,  4D020BA01 ,  4D020BA19 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB27 ,  4D020CC02 ,  4D020CC10 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DB01 ,  4D020DB02 ,  4D020DB03 ,  4D020DB05 ,  4F033QA04 ,  4F033QB02X ,  4F033QB03Y ,  4F033QB12X ,  4F033QB15Y ,  4F033QD02 ,  4F033QD19
引用特許:
審査官引用 (6件)
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