特許

J-GLOBAL ID：201503092137298222

気体処理装置および排ガス処理方法

発明者： 黒木 智之 ,  大久保 雅章 ,  藤島 英勝 ,  山本 柱 ,  鳥居 豊彦 ,  藤本 直行
出願人/特許権者： 公立大学法人大阪府立大学 ,  日本山村硝子株式会社
代理人 (4件)： 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-238845
公開番号（公開出願番号）：特開2015-097987
出願日： 2013年11月19日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
要約：

【課題】本発明は、高温の被処理ガスを熱分解しやすい気体により処理することができる気体処理装置を提供する。【解決手段】本発明の気体処理装置は、被処理ガスが流れる被処理ガス流路と、噴霧器とを備え、前記噴霧器は、第1液体の液滴が第1気体と共に噴出する第1開口を有する噴霧ノズルと、前記噴霧ノズルの周囲に設けられかつ第2気体が噴出する第2開口とを備え、前記噴霧器は、前記被処理ガス中に第1液体の液滴、第1気体および第2気体が噴出するように、少なくともその一部が前記被処理ガス流路中に配置されたことを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理ガスが流れる被処理ガス流路と、噴霧器とを備え、 前記噴霧器は、第1液体の液滴が第1気体と共に噴出する第1開口を有する噴霧ノズルと、前記噴霧ノズルの周囲に設けられかつ第2気体が噴出する第2開口とを備え、 前記噴霧器は、前記被処理ガス中に第1液体の液滴、第1気体および第2気体が噴出するように、少なくともその一部が前記被処理ガス流路中に配置されたことを特徴とする気体処理装置。

IPC (6件)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/77 ,  B05B 7/04 ,  B05B 7/08 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/18

FI (5件)：

B01D53/34 130C ,  B05B7/04 ,  B05B7/08 ,  B01D53/34 125C ,  B01D53/18 C

Fターム (38件)：

4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002DA13 ,  4D002DA35 ,  4D002DA51 ,  4D002EA01 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D002HA08 ,  4D020AA05 ,  4D020AA06 ,  4D020BA01 ,  4D020BA08 ,  4D020BA23 ,  4D020CB08 ,  4D020CC21 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02 ,  4F033QA10 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QB12Y ,  4F033QB16X ,  4F033QD02 ,  4F033QD14 ,  4F033QD19 ,  4F033QD23

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 排ガス処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-286354   出願人：三菱電機株式会社
• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-238948   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
• 排気ガスの処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-117734   出願人：公立大学法人大阪府立大学