特許
J-GLOBAL ID：201803004999769927
ガスバリアフィルムの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人信友国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-129824
公開番号（公開出願番号）：特開2015-003439
特許番号：特許第6286890号
出願日： 2013年06月20日
公開日（公表日）： 2015年01月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材上に、乾式法によりケイ素と窒素とを含む堆積層を形成する工程と、
前記堆積層に、100N/mを超え200N/m以下の基材張力のもとで、波長150nm以下の光照射を行い、変性領域を含むケイ素含有層を形成する工程と、を有する
ガスバリアフィルムの製造方法。
IPC (7件)：
B32B 9/00 ( 200 6.01)
, B32B 27/36 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H05B 33/02 ( 200 6.01)
, C23C 16/24 ( 200 6.01)
, C23C 16/34 ( 200 6.01)
B32B 9/00 A
, B32B 27/36
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
, H05B 33/02
, C23C 16/24
, C23C 16/34
