特許

J-GLOBAL ID：201803005201515677

高分子化ホウ素化合物及びその使用

発明者： 長崎 幸夫 ,  高 振宇 ,  堀口 諭吉 ,  松村 明 ,  中井 啓 ,  小野 公二 ,  鈴木 実
出願人/特許権者： 国立大学法人 筑波大学
代理人 (1件)： 特許業務法人小田島特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-175968
公開番号（公開出願番号）：特開2015-044920
特許番号：特許第6253008号
出願日： 2013年08月27日
公開日（公表日）： 2015年03月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記式Iで表される高分子化ホウ素化合物。 式中、Aは、非置換または置換C1-C12アルコキシを表し、置換されている場合の置換基は、ホルミル基または式R1R2CH-の基を表し、ここで、R1及びR2は独立して、C1-C4アルコキシまたはR1とR2は一緒になって-OCH2CH2O-、-O(CH2)3O-もしくは-O(CH2)4O-を表し、 L1は、結合または連結基を表し、 L2は、結合または連結基を表し、 Xは、Xの総数であるnの少なくとも3%が次の式(a): で表されるホウ素化合物の残基であり、Xが前記残基以外である場合には、当該Xは水素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシル基であり、 該式中、 mは、15〜10,000の整数を表し、そして nは、3〜3,000の整数を表す。

IPC (6件)：

C08G 81/02 ( 200 6.01) ,  A61K 41/00 ( 200 6.01) ,  A61P 35/00 ( 200 6.01) ,  A61K 31/80 ( 200 6.01) ,  A61K 47/34 ( 201 7.01) ,  A61K 9/127 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C08G 81/02 ,  A61K 41/00 ,  A61P 35/00 ,  A61K 31/80 ,  A61K 47/34 ,  A61K 9/127

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高分子ミセル型光刺激応答性一酸化窒素供与体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-037558   出願人：国立大学法人筑波大学
• 新規な抗癌性化合物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-522288   出願人：シメイファーマスーティカルズピーエルシー