特許

J-GLOBAL ID：201803007766581552

レーザー脱離イオン化質量分析法及びレーザー脱離イオン化質量分析用の有機シリカ多孔膜基板

発明者： 後藤 康友 ,  溝下 倫大 ,  佐々木 有理 ,  前川 佳史 ,  稲垣 伸二 ,  天野 純子 ,  八須 和子
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所 ,  公益財団法人野口研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-086418
公開番号（公開出願番号）：特開2018-185200
出願日： 2017年04月25日
公開日（公表日）： 2018年11月22日
要約：

【課題】 マトリックスを利用することなく、より高い検出感度で効率よく質量分析を行うことが可能なレーザー脱離イオン化質量分析法を提供すること。【解決手段】 照射レーザー光を吸収可能な有機基を骨格に有し、平均細孔径が5〜50nmの細孔を有し、かつ、表面開口率が33〜70%である有機シリカ多孔膜に対して、測定対象分子を含む試料を担持せしめた後、該膜の試料担持部位にレーザー光を照射することにより、前記測定対象分子をイオン化して質量分析を行うことを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

照射レーザー光を吸収可能な有機基を骨格に有し、平均細孔径が5〜50nmの細孔を有し、かつ、表面開口率が33〜70%である有機シリカ多孔膜に対して、測定対象分子を含む試料を担持せしめた後、該膜の試料担持部位にレーザー光を照射することにより、前記測定対象分子をイオン化して質量分析を行うことを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析法。

IPC (2件)：

G01N 27/62 ,  G01N 27/64

FI (2件)：

G01N27/62 G ,  G01N27/64 B

Fターム (3件)：

2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041JA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レーザー脱離イオン化質量分析法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-269387   出願人：公益財団法人野口研究所, 株式会社豊田中央研究所
• 質量分析用デバイスおよびその作製方法、並びに、そのデバイスを用いたレーザ脱離イオン化質量分析装置および分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-236247   出願人：富士フイルム株式会社
• 質量分析用基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-001812   出願人：大日本塗料株式会社
• 質量分析用デバイス及びそれを用いた質量分析装置、質量分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-244029   出願人：富士フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• メソポーラス有機シリカを用いたレーザー脱離イオン化質量分析