特許
J-GLOBAL ID：201803008624406954
LCD製造用フォトレジスト剥離液組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-506994
公開番号（公開出願番号）：特表2018-530774
出願日： 2016年08月10日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
要約：
本発明は、LCD製造用フォトレジスト剥離液組成物に関し、TFT-LCDを製造するためのあらゆる工程に使用し得る統合フォトレジスト剥離液組成物に関する。より具体的に、転移金属、転位金属及び酸化物半導体配線の全てに適用可能な水系型フォトレジスト剥離液組成物に関するものである。上記水系型フォトレジスト剥離液組成物は、(a)転位金属及び金属酸化物腐食防止剤、(b)転移金属腐食防止剤、(c)1次アルカノールアミン、(d)環状アルコール、(e)水、(f)非プロトン性極性有機溶剤、(g)プロトン性極性有機溶剤を含み、ハードベーク(Hard Baked)工程、注入(Implant)工程及び乾式蝕刻(Dry Etch)工程の進行後に発生する変形フォトレジストの除去能力に優れており、転位金属であるアルミニウム、転移金属である銅又は銀及び金属酸化物配線に同時適用することができ、有機膜及びCOA工程への導入も可能である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)下記化学式1の転位金属及び金属酸化物腐食防止剤0.01〜3重量%;
(b)下記化学式2の転移金属腐食防止剤0.01〜3重量%;
(c)1次アルカノールアミン1〜20重量%;
(d)環状アルコール1〜30重量%;
(e)水0.1〜40重量%;
(f)非プロトン性極性有機溶剤1〜40重量%; 及び
(g)プロトン性極性有機溶剤20〜60重量%を含むLCD製造用フォトレジスト剥離液組成物:
IPC (3件)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/304
G03F7/42
, H01L21/30 572A
, H01L21/304 647A
2H196AA27
, 2H196LA03
, 5F146MA02
, 5F157AA64
, 5F157BC05
, 5F157BD09
, 5F157BE12
, 5F157BE57
, 5F157BE60
, 5F157BF22
, 5F157BF23
, 5F157BF38
, 5F157BF43
, 5F157BF47
, 5F157BF49
, 5F157BF52
, 5F157BF54
, 5F157BF59
, 5F157BF62
, 5F157BF72
, 5F157BF94
, 5F157BF96
, 5F157DB03
, 5F157DB57
