特許
J-GLOBAL ID：201803009489350940

印画装置及び画像補正方法

発明者：
船津 陽平

船津 陽平 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  太田 昌宏 ,  内海 一成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-127589
公開番号（公開出願番号）：特開2018-001457
出願日： 2016年06月28日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
要約：
【課題】テストパターン印画結果に応じた補正データの数の増大を抑制できる印画装置及び画像補正方法を提供する。【解決手段】ドットを印画する複数の印画素子181を有する印画部18と、入力画像データに基づいて、印画部18を制御する制御情報を生成する制御部10とを備え、制御部10は、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、印画素子のドットの印画位置に係る印画特性とに基づいて、印画素子の位置補正ゲインを算出し、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、印画素子のドットサイズに係る印画特性とに基づいて、印画素子のサイズ補正ゲインを算出し、位置補正ゲインとサイズ補正ゲインと入力画像データとに基づいて制御情報を生成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ドットを印画する複数の印画素子を有する印画部と、 入力画像データに基づいて、前記印画部を制御する制御情報を生成する制御部と、 を備え、 前記制御部は、 一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットの印画位置に係る印画特性とに基づいて、前記印画素子の位置補正ゲインを算出し、 一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットサイズに係る印画特性とに基づいて、前記印画素子のサイズ補正ゲインを算出し、 前記位置補正ゲインと前記サイズ補正ゲインと前記入力画像データとに基づいて前記制御情報を生成する印画装置。
IPC (4件)：
B41J 29/46 ,  B41J 2/01 ,  B41J 2/205 ,  H04N 1/40
FI (7件)：
B41J29/46 A ,  B41J29/46 C ,  B41J2/01 203 ,  B41J2/01 205 ,  B41J2/01 451 ,  B41J2/205 ,  H04N1/40 101Z
Fターム (29件)：
2C056EA06 ,  2C056EB27 ,  2C056EB42 ,  2C056EC08 ,  2C056EC72 ,  2C056EC75 ,  2C056EC76 ,  2C056EC77 ,  2C056ED01 ,  2C056ED05 ,  2C057AF23 ,  2C057AF30 ,  2C057AF39 ,  2C057AL36 ,  2C057AM15 ,  2C057AM28 ,  2C057CA01 ,  2C057CA05 ,  2C061KK18 ,  2C061KK25 ,  2C061KK26 ,  5C077LL19 ,  5C077MM27 ,  5C077NN04 ,  5C077NP01 ,  5C077PP05 ,  5C077RR00 ,  5C077SS02 ,  5C077TT05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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