特許
J-GLOBAL ID:201803010063617602

摩擦低下被膜の形成方法、形成剤および含水粒/泥状物の処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳原 成 ,  小森 栄斉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-235952
公開番号(公開出願番号):特開2015-093977
特許番号:特許第6287091号
出願日: 2013年11月14日
公開日(公表日): 2015年05月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】含水粒/泥状物と接触する器壁に予め摩擦低下被膜を形成する方法であって、 含水粒/泥状物と接触する前の器壁に、粉末水溶性高分子を含む摩擦低下被膜形成剤を供給し、水の存在下に膨潤した粉末水溶性高分子を器壁に付着させて水溶性高分子の被膜を形成する方法であり、 前記摩擦低下被膜形成剤は、粉末水溶性高分子、粉末酸、および粉末炭酸/重炭酸塩を含む粉末配合物を含むものであることを特徴とする摩擦低下被膜形成方法。
IPC (13件):
C02F 11/00 ( 200 6.01) ,  B05D 7/24 ( 200 6.01) ,  B05D 1/26 ( 200 6.01) ,  B05D 1/06 ( 200 6.01) ,  B05D 3/10 ( 200 6.01) ,  C09D 201/00 ( 200 6.01) ,  C09D 5/03 ( 200 6.01) ,  C09D 133/24 ( 200 6.01) ,  C09D 133/02 ( 200 6.01) ,  C09D 103/00 ( 200 6.01) ,  C09D 171/02 ( 200 6.01) ,  C09D 129/04 ( 200 6.01) ,  C09D 7/40 ( 201 8.01)
FI (17件):
C02F 11/00 Z ,  B05D 7/24 301 A ,  B05D 7/24 301 C ,  B05D 7/24 303 B ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 1/06 H ,  B05D 1/06 K ,  B05D 3/10 Z ,  B05D 3/10 K ,  C09D 201/00 ZAB ,  C09D 5/03 ,  C09D 133/24 ,  C09D 133/02 ,  C09D 103/00 ,  C09D 171/02 ,  C09D 129/04 ,  C09D 7/12
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
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