特許
J-GLOBAL ID：201803010398852282

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに磁気ディスク用ガラス基板の洗浄液

発明者：
山口 智行

山口 智行 について

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江藤 伸行

江藤 伸行 について

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飯泉 京介

飯泉 京介 について

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徳光 秀造

徳光 秀造 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-007753
公開番号（公開出願番号）：特開2018-101458
出願日： 2018年01月20日
公開日（公表日）： 2018年06月28日
要約：
【課題】精密研磨で得られた平滑な表面粗さをできる限り悪化させずに、高清浄な洗浄が実施可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ナトリウムとカリウムを含まないアルカリ剤を含有する洗浄液を用い、洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの合計の濃度が4.00×10-3mol/L以下となる条件を維持しながら、ガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、主表面が鏡面研磨された複数のガラス基板の洗浄処理を行う。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、 前記ガラス基板はガラス成分中にナトリウムとカリウムの少なくとも一方の成分を含有し、 ナトリウムとカリウムを含まないアルカリ剤を含有する洗浄液を用い、 前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの合計の濃度が4.00×10-3mol/L以下となる条件を維持しながら、主表面が鏡面研磨された複数の前記ガラス基板の洗浄処理を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (6件)：
G11B 5/84 ,  C11D 17/08 ,  C11D 3/30 ,  C11D 1/22 ,  C11D 1/72 ,  C03C 23/00
FI (6件)：
G11B5/84 Z ,  C11D17/08 ,  C11D3/30 ,  C11D1/22 ,  C11D1/72 ,  C03C23/00 A
Fターム (26件)：
3B201AA03 ,  3B201BB01 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB94 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC21 ,  4G059AA09 ,  4G059AA20 ,  4G059AC03 ,  4G059AC30 ,  4H003AB19 ,  4H003AC11 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EB19 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA08
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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