特許
J-GLOBAL ID:201803010459056891

イオンエネルギー分布のためのRF波形適合によるフィードバック制御

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 村山 靖彦 ,  実広 信哉 ,  阿部 達彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-508214
公開番号(公開出願番号):特表2018-534716
出願日: 2016年05月12日
公開日(公表日): 2018年11月22日
要約:
プラズマチャンバなどのロードに電力を印加するRF電源を制御するためのシステムは、マスタ電源およびスレーブ電源を含む。マスタ電源は、周波数および位相信号などの制御信号をスレーブ電源に提供する。スレーブ電源は、周波数および位相信号を受信し、さらにロードから検出されたスペクトル放射の信号特性を受信する。スレーブRF電源は、ロードに印加されたそのRF出力信号の位相および電力を変化させる。電力を変化させることは、イオン分布関数の幅を制御し、位相を変化させることは、イオン分布のピークを制御する。RF発生器とロードとの間の結合に応じて、第1の高調波、第2の高調波、およびデュアル周波数駆動システムの場合は相互変調歪を含む、異なるスペクトル放射が検知される。
請求項(抜粋):
無線周波数(RF)発生器システムであって、 ロードに印加されるRF出力信号を生成する電源と、 前記ロードからのスペクトル放射を検知するセンサであって、前記スペクトル放射が、高調波および相互変調歪(IMD)のうちの少なくとも1つを含む、センサと、 前記スペクトル放射内で検知された前記高調波または前記IMDのうちの1つに従って、前記RF出力信号を変化させる制御モジュールと を備える、RF発生器システム。
IPC (1件):
H05H 1/46
FI (1件):
H05H1/46 R
Fターム (24件):
2G084AA02 ,  2G084BB05 ,  2G084CC05 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084DD02 ,  2G084DD03 ,  2G084DD13 ,  2G084DD15 ,  2G084DD38 ,  2G084DD55 ,  2G084DD61 ,  2G084HH05 ,  2G084HH06 ,  2G084HH08 ,  2G084HH15 ,  2G084HH20 ,  2G084HH21 ,  2G084HH22 ,  2G084HH25 ,  2G084HH27 ,  2G084HH30 ,  2G084HH43 ,  2G084HH52
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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