特許
J-GLOBAL ID：201803011026528914

高耐熱性レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
鈴 木 理 人

鈴 木 理 人 について

, 
仁 川 裕

仁 川 裕 について

, 
片 山 朋 英

片 山 朋 英 について


出願人/特許権者：
アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ について


代理人 (6件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  前川 英明 ,  遠藤 逸子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-518595
公開番号（公開出願番号）：特表2018-535448
出願日： 2016年11月02日
公開日（公表日）： 2018年11月29日
要約：
【課題】高耐熱性レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】本発明による特定のポリマーおよび架橋剤等を含んでなる化学増幅型ネガ型レジスト組成物を用いることによって、高感度であり、優れた解像性および耐熱性を有するレジストパターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
(I)以下の一般式(Ia)で表される繰り返し単位を含んでなるポリマー、
IPC (3件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/20 521
Fターム (25件)：
2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AE03P ,  2H225AE04P ,  2H225AE05P ,  2H225AE22P ,  2H225AF24P ,  2H225AF35P ,  2H225AF44P ,  2H225AM10P ,  2H225AM13P ,  2H225AM15P ,  2H225AM16P ,  2H225AM80P ,  2H225AN39P ,  2H225BA31P ,  2H225CA12 ,  2H225CB08 ,  2H225CC01 ,  2H225CC17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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