特許
J-GLOBAL ID：201803011713573318
フォトマスク及び電子装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-214762
公開番号（公開出願番号）：特開2018-072690
出願日： 2016年11月02日
公開日（公表日）： 2018年05月10日
要約：
【課題】露光装置の状態を常時監視する。【解決手段】フォトマスク100Aは、転写領域140と、これを囲む遮光領域150とを含む。例えば、転写領域140は、光源で解像可能な検査パターンc1を有し、遮光領域150は、転写領域140がフォトレジスト上のYc方向の隣接位置に転写された時に検査パターンc1と重複する光源で解像可能な開口部d1を有する。開口部d1は、光源から転写領域140の周囲に照射される光を遮光するブラインドが正常位置にある時にはそのブラインドで遮光される。フォトレジストに転写される検査パターンc1の状況から、ブラインドの設定やフレア等の露光装置の状態が常時監視される。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
光源で解像可能な第1パターンを有する転写領域と、
前記転写領域を囲み、前記転写領域がフォトレジスト上の第1方向の隣接位置に転写された時に前記第1パターンと重複する前記光源で解像可能な第1開口部を有する遮光領域と
を含むことを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/38
, G03F 1/26
, G03F 7/20
G03F1/38
, G03F1/26
, G03F7/20 521
, G03F7/20 502
2H195BA02
, 2H195BA06
, 2H195BA07
, 2H195BC09
, 2H195BE01
, 2H195BE03
, 2H195BE08
, 2H197AA06
, 2H197AA09
, 2H197BA02
, 2H197BA04
, 2H197BA09
, 2H197BA10
, 2H197BA11
, 2H197CA03
, 2H197CA05
, 2H197CA06
, 2H197CA08
, 2H197DA10
, 2H197FA04
, 2H197HA03
, 2H197JA21
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
