特許
J-GLOBAL ID：201803011951406209
金属印刷構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平澤 賢一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-513939
公開番号（公開出願番号）：特表2018-520033
出願日： 2016年05月27日
公開日（公表日）： 2018年07月26日
要約：
印刷構造体が提供され、この印刷構造体は、(a)受像面を有する印刷基材と、(b)a、少なくとも部分的に前記受像面を覆い、前記受像面に対して遠位側に配置された粒子受容面を有する受容層であって、少なくとも1000ナノメートル(nm)の厚さを任意選択的に有している受容層と、(c)粒子受容面に付着してこの粒子受容面上で単層を形成する複数の個々の粒子と、を備えており、その特徴については明細書において説明される。
請求項（抜粋）：
(a)受像面を有する印刷基材と、
(b)前記受像面を少なくとも部分的に覆い、前記受像面に対して遠位側に設けられた粒子受容面を有する受容層であって、少なくとも1000ナノメートル(nm)の厚さを任意選択的に有している、受容層と、
(c)前記粒子受容面に付着して前記粒子受容面上で単層を形成する、複数の個々の粒子と、
を備えた印刷構造体であって、
前記複数の粒子の数平均アスペクト比(ASPavg)が、
ASPavg=Lavg/Havg
により定義され、式中、Lavgは前記複数の粒子の数平均最大長さ寸法であり、Havgは前記複数の粒子の数平均最大厚さであり、
前記複数の粒子が、以下の構造的性質、すなわち、
(A)前記数平均最大長さ寸法(Lavg)が最大800マイクロメートルである、
(B)前記数平均最大平均厚さ(Havg)が最大1200nmである、
(C)前記数平均アスペクト比(ASPavg)が少なくとも1.5:1である、
のうちの少なくとも1つを示し、かつ、
前記単層が、少なくとも20%、少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%、または少なくとも90%の光学表面被覆率を有する、
印刷構造体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2H113AA06
, 2H113BB02
, 2H113BB07
, 2H113BB08
, 2H113BB22
, 2H113DA04
, 2H113DA64
, 2H113EA07
, 2H113EA10
, 2H113EA17
, 2H113FA10
, 2H113FA32
