特許
J-GLOBAL ID:201803012194295557

ステージ装置、精密システム、及びマイクロリソグラフィシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-557953
特許番号:特許第6241280号
出願日: 2012年06月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とを含む所定平面に平行な第1ブレードを複数有する第1部品と、前記所定平面及び前記第1ブレードに平行な第2ブレードを複数有し、前記第1方向に関して前記第1部品と並んで配置される第2部品と、を有するマルチブレード保持装置と、 前記第1及び第2ブレードが交互に配列されたオーバラップ領域に対して、前記第1及び第2方向に交差する第3方向から圧縮力を付与する付与装置と、を備え、 前記付与装置は、前記第1及び第2部品との相対移動を抑制するために前記オーバラップ領域への前記圧縮力を付与することと、抑制された前記相対移動を再度許容するために前記圧縮力を減少することとを選択的に実行可能であり、 前記マルチブレード保持装置は、前記オーバラップ領域に前記圧縮力が付与された状態において、前記第1及び第2方向に関する第1剛性力に比べて前記第3方向に関する第2剛性力が小さい、 ステージ装置。
IPC (3件):
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  F16B 7/14 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)
FI (4件):
G03F 7/20 501 ,  F16B 7/14 B ,  F16B 7/14 J ,  H01L 21/68 K
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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