特許
J-GLOBAL ID:201803012301425957

画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-138750
公開番号(公開出願番号):特開2018-010151
出願日: 2016年07月13日
公開日(公表日): 2018年01月18日
要約:
【課題】 BDセンサの出力遅延によってBD周期を用いた面特定処理を失敗する。【解決手段】 BDセンサ20に入射する光量が閾値以上になってことに応じてBD信号の周期を用いた面特定処理を実行し、BDセンサ20に入射する光量が閾値未満の状態ではBD信号の周期を用いた面特定処理を実行しないことによって面特定処理の失敗による画像形成装置の誤動作を抑制する。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
供給される電流の値に応じた光量の光ビームを出射する光源と、 前記光源から出射される光ビームが入射する第1の受光素子を含み、前記第1の受光素子に入射した光量に応じた電圧を出力する検出手段と、 複数の反射面を備え、前記光源から出射された光ビームが感光体上を走査するように前記複数の反射面によって前記光源から出射された光ビームを偏向する回転多面鏡と、 前記複数の反射面それぞれによって偏向された光ビームが入射することによって前記回転多面鏡の回転速度に応じた周期の周期信号を生成する第2の受光素子と、 前記第2の受光素子に入射する光ビームの光量が目標光量になるように、前記検出手段が出力する電圧に基づいて前記光源に供給する電流の値を制御する光量制御手段と、 前記目標光量より低い光量に対応する所定の閾値電圧を出力する電圧出力手段と、 前記周期信号の周期を用いて前記複数の反射面から前記光ビームが入射する反射面を特定する特定処理を実行する特定手段と、を備え、 前記特定手段は、前記検出手段が出力する電圧が前記所定の閾値電圧以上の場合に前記特定処理を実行し、前記検出手段が出力する電圧が前記所定の閾値電圧未満の場合、前記特定処理を実行しないことを特徴とする画像形成装置。
IPC (4件):
G02B 26/12 ,  B41J 2/47 ,  H02P 6/08 ,  H04N 1/113
FI (4件):
G02B26/12 ,  B41J2/47 101M ,  H02P6/08 ,  H04N1/04 104A
Fターム (30件):
2C362AA69 ,  2C362BA89 ,  2C362BB33 ,  2H045AA07 ,  2H045AA54 ,  2H045AA56 ,  2H045AA62 ,  2H045CA63 ,  2H045CA88 ,  2H045CB42 ,  2H045DA26 ,  5C072AA03 ,  5C072BA17 ,  5C072HA02 ,  5C072HA09 ,  5C072HA13 ,  5C072HB01 ,  5C072HB08 ,  5C072QA14 ,  5C072XA05 ,  5H560AA10 ,  5H560BB04 ,  5H560BB12 ,  5H560DA02 ,  5H560DA06 ,  5H560DA18 ,  5H560TT11 ,  5H560TT15 ,  5H560XA06 ,  5H560XA08
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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