トイレ装置およびトイレ装置の洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-077363
公開番号（公開出願番号）：特開2018-009438
出願日： 2017年04月10日
公開日（公表日）： 2018年01月18日
要約：

【課題】電気分解装置などの特別な装置を必要とせず、光触媒を使用した場合における失活問題の発生を回避し、且つボウル部の内表面に接している汚物やカビ等の有機物汚れを分解除去することのできるトイレ装置およびこのトイレ装置を用いておこなわれるトイレ装置の洗浄方法を提供する。【解決手段】トイレ装置本体と、前記トイレ装置本体に取り付けられ、ボウル部を有する便器と、前記ボウル部の内表面に紫外線を照射する紫外線光源と、前記ボウル部の内表面に、洗浄殺菌用の機能水を供給して付着させる機能水供給手段と、を少なくとも有するトイレ装置であって、前記機能水供給手段によって供給される機能水が、水の共存下における紫外線照射によって分解してOHラジカル(ヒドロキシルラジカル)を生成する非イオン性物質またはイオンが溶解した水溶液からなるOHラジカル源水溶液である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

トイレ装置本体と、前記トイレ装置本体に取り付けられ、ボウル部を有する便器と、前記ボウル部の内表面に紫外線を照射する紫外線光源と、前記ボウル部の内表面に、洗浄殺菌用の機能水を供給して付着させる機能水供給手段と、を少なくとも有するトイレ装置であって、前記機能水供給手段によって供給される機能水が、水の共存下における紫外線照射によって分解してOHラジカル(ヒドロキシルラジカル)を生成する非イオン性物質またはイオンが溶解した水溶液からなるOHラジカル源水溶液であることを特徴とするトイレ装置。

IPC (3件)：

E03D 9/00 , E03D 11/00 , E03D 9/02

FI (3件)：

E03D9/00 Z , E03D11/00 Z , E03D9/02

Fターム (6件)：

2D038AA03 , 2D038KA03 , 2D039AA02 , 2D039DB04 , 2D039DB08 , 2D039FA08

引用特許：

審査官引用 (5件)

防汚設備及び紫外線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-257438 出願人：株式会社INAX
表面処理装置および表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-018060 出願人：パナソニック株式会社
特許第3034720号

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