重合体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：田▲崎▼ 聡 , 伏見俊介 , 大浪一徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-021393
公開番号（公開出願番号）：特開2018-076543
出願日： 2018年02月08日
公開日（公表日）： 2018年05月17日
要約：

【課題】ポリカーボネート樹脂に配合した場合には成形加工性を改善でき、かつ成形不良の発生が抑えられ、表面硬度が良好な成形体を得ることができる重合体を提供する。【解決手段】ナフチル(メタ)アクリレートに由来する構成単位(a1)および芳香族ビニルに由来する構成単位(a2)を有し、前記構成単位(a2)の割合が、重合体の全構成単位100質量%のうち、0.5〜85質量%であり、質量平均分子量が、50000〜5000000である、重合体。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ナフチル(メタ)アクリレートに由来する構成単位(a1)および芳香族ビニルに由来する構成単位(a2)を有し、前記構成単位(a2)の割合が、重合体の全構成単位100質量%のうち、0.5〜85質量%であり、質量平均分子量が、50000〜5000000である、重合体。

IPC (1件)：

C08F 220/18

FI (1件)：

C08F220/18

Fターム (16件)：

4J100AB02P , 4J100AB03P , 4J100AL03R , 4J100AL03S , 4J100AL08Q , 4J100BC49Q , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA63 , 4J100FA03 , 4J100FA21 , 4J100FA28 , 4J100JA28 , 4J100JA32 , 4J100JA43 , 4J100JA67

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭59-148057
ネガ型化学増幅レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-219472 出願人：富士フイルム株式会社
特開昭59-148057

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