特許
J-GLOBAL ID：201803012679524830

マイクロ波供給装置、プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法

発明者：
伊藤 仁

伊藤 仁 について

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堀 勝

堀 勝 について

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豊田 浩孝

豊田 浩孝 について

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鈴木 陽香

鈴木 陽香 について

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関根 誠

関根 誠 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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国立大学法人名古屋大学

国立大学法人名古屋大学 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-121668
公開番号（公開出願番号）：特開2017-228354
出願日： 2016年06月20日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
要約：
【課題】スロット孔におけるマイクロ波のパワー密度を更に高める。【解決手段】マイクロ波供給装置は、導波管、サーキュレータ、及び、整合器を備える。サーキュレータの第1ポートは入力端からのマイクロ波を受ける。導波管の第1端と第2端は、サーキュレータの第2ポート及び第3ポートにそれぞれ結合されている。整合器は、入力端とサーキュレータの第1ポートとの間に設けられている。導波管は、互いに対面する第1の壁及び第2の壁、並びに、互いに対面する第3の壁及び第4の壁を有する矩形導波管を含む。第1の壁には、スロット孔が形成されており、スロット孔は、第3の壁の側に偏倚した領域に設けられている。導波管は、当該導波管内に設けられた第1のリッジ部を含む。第1のリッジ部は、スロット孔に対面し、第2の壁及び第3の壁に接し、第1の壁及び第4の壁から離間している。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
プラズマ生成用のマイクロ波を供給するマイクロ波供給装置であって、 第1端及び第2端を有し、該第1端と該第2端との間で延在する導波管と、 第1ポート、前記第1端に結合された第2ポート、及び、前記第2端に結合された第3ポートを有し、入力端からのマイクロ波を前記第1ポートから前記第2ポートに伝搬し、前記第3ポートに受けたマイクロ波を前記第1ポートから前記入力端の側に戻すサーキュレータと、 前記入力端と前記サーキュレータの前記第1ポートとの間に設けられており、前記第1ポートから前記入力端の側に戻されるマイクロ波の一部を前記サーキュレータの前記第1ポートに反射する整合器と、 を備え、 前記導波管は、互いに対面する第1の壁及び第2の壁、並びに、前記第1の壁及び前記第2の壁に交差し、且つ、互いに対面する第3の壁及び第4の壁を含む矩形導波管を含み、 前記第1の壁には、前記導波管内のマイクロ波の伝搬方向に沿って延びるスロット孔が形成されており、該スロット孔は、前記第3の壁の側に偏倚した領域に設けられており、 前記導波管は、該導波管内に設けられた第1のリッジ部を含み、 前記第1のリッジ部は、直方体形状を有し、前記第1の壁から離間し且つ前記スロット孔に対面し、前記第2の壁及び前記第3の壁に接し、前記第4の壁から離間している、 マイクロ波供給装置。
IPC (2件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/306
FI (3件)：
H05H1/46 R ,  H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D
Fターム (28件)：
2G084AA07 ,  2G084BB01 ,  2G084BB21 ,  2G084CC09 ,  2G084CC14 ,  2G084CC33 ,  2G084CC34 ,  2G084DD04 ,  2G084DD20 ,  2G084DD23 ,  2G084DD41 ,  2G084DD45 ,  2G084DD51 ,  2G084DD53 ,  2G084DD56 ,  2G084DD62 ,  2G084DD66 ,  2G084DD68 ,  2G084FF11 ,  2G084FF40 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB26 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26
引用特許：
出願人引用 (4件)
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