特許
J-GLOBAL ID：201803012696917772
UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 森田 拓
, 前川 純一
, 二宮 浩康
, 上島 類
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-510738
公開番号（公開出願番号）：特表2018-528469
出願日： 2016年08月24日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
要約：
本願では、UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置を開示し、当該装置は、細長いチャンバと、チャンバに向かう方向に開いている少なくとも1つの供給口と、当該少なくとも1つの供給口とは反対側にある、チャンバの長さにわたって延在するスリット形の排出口とを有するハウジング、チャンバ内を長手方向に通って延在する、少なくとも部分的にUV放射に対して透過性である管部材であって、当該管部材とチャンバの壁との間に、排出口の中心と交差するチャンバの長手方向中心平面を基準として対称的である流れ空間が形成されるように、かつ、当該管部材がハウジングのスリット形の排出口内まで延在して、長手方向に延在する2つの排出スリットを当該管部材とハウジングとの間に形成するように、チャンバ内に配置された管部材、および流れ空間の方向にUV放射を排出口に通してハウジングから外部へ放出するように管部材内に配置された少なくとも1つのUV放射源を備えている。本装置は、排出口の少なくとも50%の下方の領域において基板の表面上にラジカルの実質的に一様な空間的分布を生じさせるように、少なくとも1つのUV放射源から放出されて排出口から出射する放射を操作するために適した手段を特徴とする。公知の構造では、排出口の中央の下方の領域に高いラジカル濃度が発生し、この濃度は排出口に対して横方向において迅速に低下していく。
請求項（抜粋）：
UV放射が照射される液状の媒質を基板に塗布するための装置であって、
細長いチャンバと、当該チャンバに向かう方向に開いている少なくとも1つの供給口と、当該少なくとも1つの供給口とは反対側にある、前記チャンバの長さにわたって延在するスリット形の排出口とを有するハウジング、
前記チャンバ内を長手方向に延在する、少なくとも部分的にUV放射に対して透過性である管部材であって、当該管部材と前記チャンバの壁との間に、前記排出口の中心と交差する前記チャンバの長手方向中心平面を基準として対称的である流れ空間が形成されるように、かつ、当該管部材が前記ハウジングのスリット形の前記排出口内まで延在して、長手方向に延在する2つの排出スリットを当該管部材と前記ハウジングとの間に形成するように、前記チャンバ内に配置された管部材、および
前記液体中にラジカルを生成して前記基板の表面に届けるため、前記流れ空間の方向にUV放射を前記排出口に通して前記ハウジングから外部へ放出するように前記管部材内に配置された少なくとも1つのUV放射源
を備えた装置において、
前記装置は、
前記排出口の少なくとも50%の範囲の下方の領域において前記基板の表面上にラジカルの実質的に一様な空間的分布を生じさせるように、前記少なくとも1つのUV放射源から放出されて前記排出口から出射する放射を操作するために適した手段
を備えていることを特徴とする、装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/82
, H01L21/304 643C
2H195BB18
, 2H195BB22
, 5F157AA02
, 5F157AA03
, 5F157AA22
, 5F157AA23
, 5F157AA36
, 5F157AA64
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB98
, 5F157BB32
, 5F157BB42
, 5F157BB44
, 5F157BB76
, 5F157CF28
, 5F157CF40
, 5F157DB02
, 5F157DB37
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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