真空紫外光処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-189562
公開番号（公開出願番号）：特開2012-049305
出願日： 2010年08月26日
公開日（公表日）： 2012年03月08日
要約：

【課題】被処理材に照射される真空紫外光の光強度分布を均一に調整して、被処理材を高均一に処理する。【解決手段】真空紫外光を照射する光源と、被処理材を載置するステージと、前記ステージと光源の間に配置され、前記被処理材表面に照射される真空紫外光の面内光強度分布を補正する補正部材を備え、前記補正部材により面内における透過率を調整して前記被処理部材に均一な光強度を有する真空紫外光を照射する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空紫外光を照射する光源と、被処理材を載置するステージと、前記ステージと光源の間に配置され、前記被処理材表面に照射される真空紫外光の面内光強度分布を補正する補正部材を備え、前記補正部材により面内における透過率を調整して前記被処理部材に均一な光強度を有する真空紫外光を照射すること特徴とする真空紫外光処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 , H01L 21/306

FI (3件)：

H01L21/30 570 , H01L21/304 645D , H01L21/302 105A

Fターム (26件)：

5F004AA01 , 5F004BB02 , 5F004BB05 , 5F004DA26 , 5F004DB26 , 5F046LA18 , 5F046LB09 , 5F157AA73 , 5F157AB02 , 5F157AB13 , 5F157AB33 , 5F157AB94 , 5F157AC01 , 5F157AC12 , 5F157BG44 , 5F157BG45 , 5F157BG47 , 5F157BH21 , 5F157CE62 , 5F157CE63 , 5F157CF38 , 5F157CF40 , 5F157CF62 , 5F157CF66 , 5F157DB37 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (10件)

紫外光照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-323597 出願人：ホーヤ・ショット株式会社
照明光学系、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-283637 出願人：株式会社ニコン
フォトレジストの表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-353387 出願人：ウシオ電機株式会社

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