特許
J-GLOBAL ID：201803013278604233
低圧プラズマを用いて生体組織を処置するための装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-528890
特許番号：特許第6310458号
出願日： 2013年06月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 a)高周波電磁場を生成するための変圧器(1)と、
b)前記変圧器(1)に電気的に結合され得るプローブと、
c)前記変圧器(1)により生成される高周波電磁場を制御するための制御デバイス(3)と、
を有する、低圧プラズマを使用して生体組織(G)を処置するための装置において、
前記変圧器(1)は、一次コイル(4)と、該一次コイルと同軸に配置される二次コイル(5)とを有し、
2つの前記コイル(4、5)の重なり領域(B)における前記一次コイル(4)と前記二次コイル(5)との間の中間空間は、第1の間隔(d1)から、前記プローブ(2)のためのカップリング(7)の方向で、更に大きな第2の間隔(d2)へと増大し、
前記一次コイル(4)が、前記二次コイル(5)の周囲に、円錐形に同軸に配置される
ことを特徴とする装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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