特許

J-GLOBAL ID：201803013659206927

偏光膜製造用の積層体

発明者： 石丸 咲美 ,  山下 裕司
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 籾井 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-086639
公開番号（公開出願番号）：特開2018-124579
出願日： 2018年04月27日
公開日（公表日）： 2018年08月09日
要約：

【課題】外観に優れた偏光膜を製造させ得る積層体を提供すること。【解決手段】本発明の積層体10は、長尺状で、ポリビニルアルコール系樹脂を含むポリビニルアルコール系樹脂膜12と、ポリビニルアルコール系樹脂膜12の片側に配置された樹脂基材11とを備え、一方の面から突出するナーリング13が形成されている。このナーリングは樹脂基材側に突出するように形成されており、ナーリングの高さは5μm〜15μmである。また、上記樹脂基材の吸水率は0.2%以上0.75%以下である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

長尺状で、ポリビニルアルコール系樹脂を含むポリビニルアルコール系樹脂膜と、 該ポリビニルアルコール系樹脂膜の片側に配置された樹脂基材とを備え、 一方の面から突出するナーリングが形成されている、 偏光膜製造用の積層体であって、 該樹脂基材の吸水率が0.2%以上0.75%以下であって、 該ナーリングが樹脂基材側に突出するように形成されており、 該ナーリングの高さが5μm〜15μmである、偏光膜製造用の積層体。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  B29C 55/06

FI (2件)：

G02B5/30 ,  B29C55/06

Fターム (26件)：

2H149AB02 ,  2H149AB17 ,  2H149BA02 ,  2H149BA12 ,  2H149BB02 ,  2H149BB12 ,  2H149FA03W ,  2H149FB05 ,  2H149FD19 ,  2H149FD46 ,  4F210AA19 ,  4F210AC03A ,  4F210AC03B ,  4F210AD08A ,  4F210AD11A ,  4F210AD33 ,  4F210AF16 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR12 ,  4F210QA03 ,  4F210QC02 ,  4F210QG01 ,  4F210QG11 ,  4F210QG15 ,  4F210QM01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-040584   出願人：日東電工株式会社