特許
J-GLOBAL ID:201803013732176314
5-ヒドロキシメチル-2-フルフラールの製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
横田 修孝
, 榎 保孝
, 大森 未知子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-082634
公開番号(公開出願番号):特開2018-002701
出願日: 2017年04月19日
公開日(公表日): 2018年01月11日
要約:
【課題】本発明は、工業規模の生産に適した5-ヒドロキシメチル-2-フルフラール(5-HMF)の製造方法と、5-HMFを合成するための新たな触媒組成物を提供することを目的とする。【解決手段】本発明によれば、ヘキソースを構成糖として含む糖質またはその誘導体を、活性炭を触媒として使用して脱水反応させることを含んでなる、5-HMFの製造方法と、ヘキソースを構成糖として含む糖質から脱水反応により5-HMFを生成させる反応の触媒用組成物であって、活性炭を含んでなる触媒組成物が提供される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヘキソースを構成糖として含む糖質またはその誘導体を、活性炭を触媒として使用して脱水反応させることを含んでなる、5-ヒドロキシメチル-2-フルフラールの製造方法。
IPC (5件):
C07D 307/50
, C07D 307/68
, A61K 31/341
, C08G 63/672
, A23L 29/00
FI (5件):
C07D307/50
, C07D307/68
, A61K31/341
, C08G63/672
, A23L29/00
Fターム (19件):
4B035LG04
, 4B035LP01
, 4B035LP59
, 4C037HA20
, 4C037MA01
, 4C086AA01
, 4C086AA04
, 4C086BA03
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086NA20
, 4J029AA03
, 4J029AB01
, 4J029AC01
, 4J029BA03
, 4J029CF19
, 4J029HA01
, 4J029HB01
, 4J029HB02
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (11件)
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