特許
J-GLOBAL ID:201803014444122494

挿入損性能が向上した接合型フェライトデバイスに関する装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人深見特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-512859
特許番号:特許第6231555号
出願日: 2013年05月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 サーキュレータであって、 第1の側および第2の側を有する接地平面と、 前記接地平面の前記第1の側上に配設される磁石と、 前記接地平面の前記第2の側上に配設されるフェライト系ディスクとを備え、前記フェライト系ディスクは接地表面上に金属被覆層を含み、これにより前記金属被覆層は前記接地平面の前記第2の側と電気的に接し、前記サーキュレータは、さらに、 前記接地平面から前記磁石を挟んで反対側に隣接する帰還経路ディスクを含む帰還経路を備え、前記帰還経路ディスクは、前記磁石の直径よりも長い直径を有し、前記帰還経路は、中空円筒を含み、前記帰還経路ディスクおよび前記中空円筒は、前記接地平面、前記磁石および前記フェライト系ディスクを取り囲み、前記中空円筒は、前記帰還経路ディスクの直径とほぼ一致する内径を有する、サーキュレータ。
IPC (1件):
H01P 1/387 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01P 1/387
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る