基板処理方法および基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-216556
公開番号（公開出願番号）：特開2015-079876
特許番号：特許第6258656号
出願日： 2013年10月17日
公開日（公表日）： 2015年04月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を収容する処理容器と、前記処理容器に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、前記処理容器内を排気するターボ分子ポンプを有する排気機構とを備えた処理装置を用い、前記処理容器内に処理ガスを供給し、前記処理容器内の基板上で処理ガスを反応させて基板を処理する基板処理方法であって、前記処理ガスの反応により、処理ガスよりも分子量の大きな副生成物が生成される場合に、前記処理容器内の圧力を所定値として、前記ターボ分子ポンプの回転数をより低い値に調節することにより、処理の均一性を調節することを特徴とする基板処理方法。

IPC (1件)：