特許
J-GLOBAL ID:201803015483321646

位置測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 江崎 光史 ,  鍛冶澤 實 ,  篠原 淳司 ,  中村 真介 ,  清田 栄章
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-000417
公開番号(公開出願番号):特開2016-138879
特許番号:特許第6271601号
出願日: 2016年01月05日
公開日(公表日): 2016年08月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】 測定範囲を拡大するために順番に並べられた少なくとも一つの第一の基準尺(1)と少なくとも一つの第二の基準尺(2,2.1)、並びに 光ビームを放射する光源(41)を備えた走査機器(4)、 を有し、 第一の基準尺(1)が、当たって来る光ビームを第一の回折効率により所与の回折次数で回折させる、第一の周期的なマーキング(10)を備えた反射位相格子を有する、 位置測定装置において、 第二の基準尺(2,2.1)が、第一の周期的なマーキング(10)と形状が異なる第二の周期的なマーキング(20,20.1)を備えた反射位相格子を有し、そのため、第二の基準尺(2,2.1)の相対的な回折効率が第一の基準尺(1)の相対的な回折効率よりも高くなっていることと、 第一の基準尺(1)と第二の基準尺(2,2.1)がそれぞれ一つの透明なスペーサ層(11,21,21.1)とこのスペーサ層(11,21,21.1)の両側に配置された二つの反射体(12,13,22,23,22.1,23.1)とから成る層スタックを有し、第一の基準尺(1)の走査機器(4)の方を向いた反射体(12)が第一の周期的なマーキング(10)を構成し、第二の基準尺(2,2.1)の走査機器(4)の方を向いた反射体(22,22.1)が第二の周期的なマーキング(20,20.1)を構成することと、 第二の基準尺のスペーサ層の下の反射体の反射率が第一の基準尺のスペーサ層の下の反射体の反射率よりも小さいか、或いはスペーサ層(21,21.1)とこのスペーサ層(21,21.1)の下に配置された反射体(23,23.1)の間に減衰層(24,24.1)を配置することによって、第二の基準尺(2,2.1)の位相格子の反射率は、当たって来る光ビームが第一の回折効率により所与の回折次数で回折するように、第一の基準尺(1)の位相格子の反射率と比べて低減されていることと、 を特徴とする位置測定装置。
IPC (3件):
G01D 5/347 ( 200 6.01) ,  G01D 5/38 ( 200 6.01) ,  G02B 5/18 ( 200 6.01)
FI (3件):
G01D 5/347 110 C ,  G01D 5/38 G ,  G02B 5/18
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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