特許
J-GLOBAL ID：201803016847146663

産業施設からの排出ガスをろ過するための方法

発明者：
フィリップ シャントロー

フィリップ シャントロー について


出願人/特許権者：
ゼネラル エレクトリック テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

ゼネラル エレクトリック テクノロジー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング について


代理人 (1件)： 荒川 聡志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-551692
特許番号：特許第6329489号
出願日： 2013年01月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 産業施設からの排出ガスをろ過するための方法のための膜であって、当該膜が、複数の一連のガス拡散選択膜を有し、 各ガス拡散選択膜は、内側表面と外側表面とを含む円筒形の壁を有する中空多孔質繊維から形成され、かつ、処理すべき排出ガスが中空多孔質繊維の外側表面の外側を中空多孔質繊維に沿って流れ、中空多孔質繊維の壁の内側表面と外側表面との間の細孔の寸法が外側表面から内側表面に向かって小さくなり、中空多孔質繊維の壁の排出ガスの流れる方向に沿った細孔の寸法が流れる方向に沿って小さくなると共に、各ガス拡散選択膜の細孔が、放射性のエアロゾル又はガスの形態の有機ヨウ素、無機ヨウ素、セシウム、ストロンチウム、及び、エアロゾル又はガスの形態の貴ガス、四酸化ルテニウムの1種又は複数種を保持するのに適合している、膜。
IPC (4件)：
B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  B01D 71/06 ( 200 6.01) ,  B01D 71/56 ( 200 6.01) ,  G21F 9/02 ( 200 6.01)
FI (5件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 71/06 ,  B01D 71/56 ,  G21F 9/02 551 A ,  G21F 9/02 551 E
引用特許：
審査官引用 (5件)
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