ディスプレイ・デバイスのためのバリア材料

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：青木篤 , 三橋真二 , 木村健治 , 胡田尚則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-000304
公開番号（公開出願番号）：特開2018-078326
出願日： 2018年01月04日
公開日（公表日）： 2018年05月17日
要約：

【課題】ディスプレイ・デバイスのためのバリア材料を提供する。【解決手段】1つ又は複数のシリコン含有層と金属酸化物層とを含む装置がここに記載される。また、例えばディスプレイ・デバイス内の不動態化層として使用されるべき1つ又は複数のシリコン含有層を形成する方法もここに記載される。1つの特定の態様では、本装置は、透明金属酸化物層と、酸化ケイ素層と、窒化ケイ素層とを含む。この又は他の態様では、本装置は350°C以下の温度で堆積される。ここに記載されるシリコン含有層は、約1.9g/cm3以上の密度、約4×1022cm-3以下の水素含有量、及びUV-可視光分光計によって測定したときに400〜700nmで約90%以上の透明度のうち1つ又は複数を含む。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

金属酸化物層を含む基材と、金属酸化物の少なくとも一部の上に堆積され、2.4g/cm3以上の密度及び4×1022cm-3以下の水素含有量を有する窒化ケイ素層とを含む、装置。

IPC (4件)：

H01L 21/318 , H01L 21/316 , H01L 21/336 , H01L 29/786

FI (4件)：

H01L21/318 B , H01L21/318 M , H01L21/316 M , H01L29/78 619A

Fターム (31件)：

5F058BA20 , 5F058BC08 , 5F058BC10 , 5F058BD04 , 5F058BD06 , 5F058BD10 , 5F058BF06 , 5F058BF07 , 5F058BF27 , 5F058BF29 , 5F058BF30 , 5F058BF37 , 5F058BJ04 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD05 , 5F110EE01 , 5F110EE04 , 5F110EE07 , 5F110GG01 , 5F110GG43 , 5F110GG58 , 5F110NN03 , 5F110NN04 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN28 , 5F110NN35 , 5F110NN39 , 5F110NN40 , 5F110QQ19

引用特許：

審査官引用 (9件)

金属酸窒化物TFT用キャッピング層
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-516778 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
絶縁層を有する酸化物半導体素子およびそれを用いた表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-313579 出願人：キヤノン株式会社
有機アミノシラン前駆体及びこれを含む膜の堆積方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-124074 出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド

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