特許
J-GLOBAL ID:201803017388256376
液晶素子及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
鷲田 公一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-102867
公開番号(公開出願番号):特開2018-197822
出願日: 2017年05月24日
公開日(公表日): 2018年12月13日
要約:
【課題】高い耐熱性を有し、且つ折り曲げ時のセルギャップムラが抑制され、曲げ耐性に優れた液晶素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】一の基板と、それと対向する他の基板の間に配置され、且つそれらの基板の少なくとも一方と接合した複数の接合スペーサと、前記一の基板と、前記他の基板と、前記接合スペーサとで区画される空間に充填された液晶層とを有し、前記一の基板と前記他の基板は、それぞれ下記(1)〜(5)を全て満たす、液晶素子。(1)厚さ10μmにおけるL*a*b*表色系のb*値が5以下である。(2)厚さ10μmにおける波長550nmでの厚さ方向の位相差値Rthが200nm以下である。(3)JIS P8115に準拠して測定される、厚さ10μmにおけるMIT耐折性試験での耐折回数が1万回以上である。(4)ガラス転移温度が200°C以上である。(5)厚さが50μm以下である。【選択図】図3-1
請求項(抜粋):
一の基板と、それと対向する他の基板と、前記一の基板と前記他の基板との間に配置され、且つ一の基板と他の基板の少なくとも一方と接合した接合スペーサと、前記一の基板と、前記他の基板と、前記接合スペーサとで区画される空間に充填された液晶層とを有し、
前記一の基板と前記他の基板は、下記(1)〜(5)を全て満たす、液晶素子。
(1)厚さ10μmにおけるL*a*b*表色系のb*値が5以下である
(2)厚さ10μmにおける波長550nmでの厚さ方向の位相差値Rthが200nm以下である
(3)JIS P8115に準拠して測定される、厚さ10μmにおけるMIT耐折性試験での耐折回数が1万回以上である
(4)ガラス転移温度が200°C以上である
(5)厚さが50μm以下である
IPC (1件):
FI (2件):
G02F1/1333 500
, G02F1/1339 500
Fターム (11件):
2H189DA08
, 2H189DA09
, 2H189EA04X
, 2H189FA15
, 2H189FA81
, 2H190JB03
, 2H190JB05
, 2H190JB13
, 2H190JD01
, 2H190JD17
, 2H190LA02
引用特許:
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