磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-502391
特許番号：特許第6266504号
出願日： 2013年02月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、前記ガラス基板と前記研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することで前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板を構成するガラスは、SiO2を主成分とし、二価のアルカリ土類金属を含むものであり、前記研磨砥粒は、平均粒径が10〜50nmの範囲内のコロイダルシリカであり、前記研磨液は、酸性域に調整されたものであり、かつアルミニウムイオンを含有させることにより、研磨中に生じるガラス成分を含むスラッジを分解し、研磨後の前記ガラス基板の主表面の算術平均表面粗さRaが0.20nm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。

IPC (3件)：