特許
J-GLOBAL ID：201803018279312700

触媒の製造方法

発明者：
水畑 宏隆

水畑 宏隆 について

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吉田 章人

吉田 章人 について

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竹中 忍

竹中 忍 について

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丸山 純

丸山 純 について

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福原 知子

福原 知子 について

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丸山 翔平

丸山 翔平 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について

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地方独立行政法人大阪産業技術研究所

地方独立行政法人大阪産業技術研究所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人あーく特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-087193
公開番号（公開出願番号）：特開2018-183743
出願日： 2017年04月26日
公開日（公表日）： 2018年11月22日
要約：
【課題】白金等の貴金属を使用しない触媒において、優れた酸素還元と酸素発生との両方の触媒能が付与される触媒の製造方法を提供する。【解決手段】触媒の製造方法は、第1〜第3熱処理工程を含んでいる。第1熱処理工程では、第1の含窒素遷移金属錯体と炭素材料とを、第1の不活性ガス雰囲気中で加熱する(S1)。第2熱処理工程では、第1熱処理工程で得られた炭素材料を、酸化性ガス雰囲気中で加熱する(S2)。第3熱処理工程では、第2熱処理工程で得られた炭素材料と第2の含窒素遷移金属錯体とを、第2の不活性ガス雰囲気中で加熱する(S3)。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
炭素材料と第1の含窒素遷移金属錯体とを、第1の不活性ガス雰囲気中で加熱する第1熱処理工程と、 前記第1熱処理工程で得られた炭素材料を、酸化性ガス雰囲気中で加熱する第2熱処理工程と、 前記第2熱処理工程で得られた炭素材料と第2の含窒素遷移金属錯体とを、第2の不活性ガス雰囲気中で加熱する第3熱処理工程とを含む触媒の製造方法。
IPC (4件)：
B01J 23/745 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/06 ,  H01M 4/88
FI (4件)：
B01J23/745 M ,  B01J37/08 ,  B01J37/06 ,  H01M4/88 K
Fターム (37件)：
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA27C ,  4G169BC31C ,  4G169BC62C ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC66C ,  4G169BC67A ,  4G169BC67C ,  4G169BC68C ,  4G169BE13C ,  4G169BE37C ,  4G169BE38C ,  4G169BE39C ,  4G169CC40 ,  4G169DA05 ,  4G169EA07 ,  4G169FA02 ,  4G169FB27 ,  4G169FB30 ,  4G169FB34 ,  4G169FB36 ,  4G169FC03 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  5H018AA10 ,  5H018AS03 ,  5H018BB01 ,  5H018BB13 ,  5H018EE05 ,  5H018EE06 ,  5H018EE16 ,  5H018HH10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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