基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：稲葉良幸 , 大貫敏史 , 江口昭彦 , 内藤和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-068277
公開番号（公開出願番号）：特開2018-117153
出願日： 2018年03月30日
公開日（公表日）： 2018年07月26日
要約：

【課題】形状、サイズ及び/又は組成が異なるバールを有する、リソグラフィ装置で使用するオブジェクトホルダと、そのようなバールを有するオブジェクトホルダの製造方法と、を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置用のオブジェクトホルダ(100)は、表面(400a)を有する本体(400)を有する。オブジェクトを支持する複数のバール(406)が薄膜スタック(410,440,450)の表面上又はアパーチャ内に形成される。バールの少なくとも1つは、レーザ焼結によって形成される。レーザ焼結によって形成されるバールの少なくとも1つは、レーザ焼結又はその他の方法によって以前に形成された損傷したバールの補修部分であってもよい。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置で使用するオブジェクトホルダの製造方法であって、表面を有する本体を提供するステップと、前記表面から突き出しオブジェクトを支持する端面を有する複数のバールを、前記表面上に形成するステップと、を含み、少なくとも1つの前記バールの少なくとも一部の形成ステップが、レーザ焼結を含む、方法。

IPC (2件)：

H01L 21/683 , G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/68 N , G03F7/20 521

Fターム (46件)：

2H197AA05 , 2H197AA10 , 2H197AA12 , 2H197CA06 , 2H197CA08 , 2H197CA10 , 2H197CD02 , 2H197CD03 , 2H197CD05 , 2H197CD12 , 2H197CD13 , 2H197HA03 , 2H197HA04 , 2H197HA05 , 2H197HA10 , 5D033DA22 , 5F131AA02 , 5F131AA03 , 5F131AA12 , 5F131AA32 , 5F131AA33 , 5F131AA34 , 5F131BA13 , 5F131CA46 , 5F131DA09 , 5F131DB02 , 5F131DB52 , 5F131DB62 , 5F131DB72 , 5F131DB76 , 5F131EA02 , 5F131EA22 , 5F131EA23 , 5F131EA24 , 5F131EA27 , 5F131EB01 , 5F131EB11 , 5F131EB31 , 5F131EB54 , 5F131EB78 , 5F131EB79 , 5F131KA16 , 5F131KA44 , 5F131KA54 , 5F131KB07 , 5F131KB32

引用特許：

出願人引用 (2件)

ウエハチャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-347940 出願人：株式会社日立製作所
汚染物質削減基板移送およびサポートシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-554308 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

審査官引用 (2件)

ウエハチャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-347940 出願人：株式会社日立製作所
汚染物質削減基板移送およびサポートシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-554308 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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