特許
J-GLOBAL ID:201803018558998085
中間留分を製造する第二段階水素化分解のための改善された貴金属ゼオライト触媒
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人浅村特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-506972
公開番号(公開出願番号):特表2018-529508
出願日: 2016年08月09日
公開日(公表日): 2018年10月11日
要約:
a)20〜400μmol/gのOD酸性度および800〜1500nm2の平均ドメインサイズを有するゼオライトベータと、b)0.05〜0.12の間のASDIを有するゼオライトUSYと、c)触媒担体と、d)0.1〜10重量%の貴金属とを含み、380°F(193°C)より高い初留点を有する炭化水素系フィードを水素化分解するために使用されるとき、最大37重量%の合成変換の範囲にわたって、350SCFB未満の水素消費量を与える第二段階水素化分解触媒が提供される。第二段階水素化分解プロセスを使用する第二段階水素化分解プロセスが提供される。第二段階水素化分解触媒を製造するための方法も提供される。
請求項(抜粋):
a.20〜400μmol/gのOD酸性度および800〜1500nm2の平均ドメインサイズを有するゼオライトベータと、
b.0.05〜0.12の間のASDIを有するゼオライトUSYと、
c.触媒担体と、
d.0.1〜10重量%の貴金属と
を含み、380°F(193°C)より高い初留点を有する炭化水素系フィードを水素化分解するために使用されるとき、最大37重量%の合成変換の範囲にわたって、350SCFB未満の水素消費量を与える、第二段階水素化分解触媒。
IPC (3件):
B01J 29/80
, B01J 37/00
, C10G 47/18
FI (3件):
B01J29/80 M
, B01J37/00 D
, C10G47/18
Fターム (59件):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BA03A
, 4G169BA03B
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BA43A
, 4G169BB04B
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC65A
, 4G169BC69A
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CC05
, 4G169DA05
, 4G169EC03Y
, 4G169EC04Y
, 4G169EC07Y
, 4G169FB06
, 4G169FB30
, 4G169FB57
, 4G169FB65
, 4G169FC07
, 4G169FC08
, 4G169ZA05A
, 4G169ZA05B
, 4G169ZA19A
, 4G169ZA19B
, 4G169ZC03
, 4G169ZC04
, 4G169ZC07
, 4G169ZC08
, 4G169ZF07A
, 4G169ZF07B
, 4H129AA02
, 4H129CA08
, 4H129CA09
, 4H129DA21
, 4H129KA12
, 4H129KB03
, 4H129KC15X
, 4H129KC15Y
, 4H129KC17X
, 4H129KC17Y
, 4H129KC40X
, 4H129KC40Y
, 4H129KD25X
, 4H129KD25Y
, 4H129KD26X
, 4H129KD26Y
, 4H129KD44X
, 4H129KD44Y
, 4H129NA23
, 4H129NA37
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
水素化処理触媒と使用方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-522998
出願人:シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド
-
触媒組成物の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平10-538191
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
炭化水素ストリームの異性化脱ロウ方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-585563
出願人:エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
審査官引用 (3件)
-
水素化処理触媒と使用方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-522998
出願人:シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド
-
触媒組成物の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平10-538191
出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
炭化水素ストリームの異性化脱ロウ方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-585563
出願人:エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
前のページに戻る