特許
J-GLOBAL ID：201803018643005818

感光性樹脂用の剥離用溶剤

発明者：
ブールデッテ, アルノー

ブールデッテ, アルノー について


出願人/特許権者：
ローディア オペレーションズ

ローディア オペレーションズ について


代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-514396
公開番号（公開出願番号）：特表2018-535441
出願日： 2016年09月14日
公開日（公表日）： 2018年11月29日
要約：
本発明は、次の溶剤:(51)式R1OOC-A-CONR2R3の少なくとも1種のエステルアミド化合物を含む溶剤、(52)DMSO、(53)シクロペンタノンの少なくとも2つを含む溶剤混合物の、フォトレジスト剥離用溶剤としての使用に関する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記の溶剤(S1)、(S2)および(S3): (S1)下式(I): R1OOC-A-CONR2R3 (I) (式中: R1は、1〜36個の範囲の炭素原子の平均数を含む、飽和もしくは不飽和の、線状もしくは分岐の、任意選択的に環式の、任意選択的に芳香族の、炭化水素ベースの基から選択される基であり; R2およびR3は、同一であっても異なってもよく、1〜36個の範囲の炭素原子の平均数を含む、飽和もしくは不飽和の、線状もしくは分岐の、任意選択的に環式の、任意選択的に芳香族の、任意選択的に置換された、炭化水素ベースの基から選択される基であり、R2およびR3は一緒に、任意選択的に置換されているおよび/または任意選択的にヘテロ原子を含む、環を任意選択的に形成することができ、 Aは、2〜12個、好ましくは2〜4個の範囲の炭素原子の平均数を含む、線状もしくは分岐の二価のアルキル基である) に相当する少なくとも1種のエステルアミド化合物を含む溶剤 (S2)ジメチルスルホキシド DMSO (S3)シクロペンタノン C5H8O の少なくとも2つを含む溶剤の混合物の、フォトレジストを剥離するための使用。
IPC (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  C09D 9/00
FI (3件)：
G03F7/42 ,  H01L21/30 572B ,  C09D9/00
Fターム (13件)：
2H196AA25 ,  2H196BA01 ,  2H196BA09 ,  2H196LA03 ,  4J038JA33 ,  4J038JB12 ,  4J038JC11 ,  4J038KA06 ,  4J038NA10 ,  4J038PB09 ,  4J038RA04 ,  4J038RA15 ,  5F146MA02
引用特許：
審査官引用 (1件)
  • 半導体装置の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-278556   出願人：株式会社ルネサステクノロジ

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