特許
J-GLOBAL ID:201803018685667357

多数の光ヘッドからのスペクトルの収集

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 園田・小林特許業務法人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-100572
公開番号(公開出願番号):特開2016-185590
特許番号:特許第6272945号
出願日: 2016年05月19日
公開日(公表日): 2016年10月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の光学開孔を有する研磨パッドを保持するためのプラテンと、 基板を前記研磨パッドに対して保持するためのキャリアヘッドと、 前記キャリアヘッドと前記プラテンとの間の相対運動を生成するためのモータと、 光学モニタシステムとを含み、 前記光学モニタシステムが、 複数の光源であって、各光源が所定波長範囲の光であって実質的に同一スペクトルの光を出力する複数の光源と、 分光器を有する共通検出器と、 前記複数の光源の各々から前記プラテンの複数の分離した位置の各々に光を導き、光源の個数と分離した位置の個数は等しくて、前記複数の分離した位置の各位置の上を前記基板が通るときに前記各位置から前記基板に光を導いて、前記基板が前記各位置の上を通るときに、前記基板からの反射光を受け取り、前記複数の分離した位置の各位置からの反射光を前記共通検出器に導くように構成された光学アセンブリと を含み 前記プラテンの複数の分離した位置は、前記複数の光学開孔を有する前記研磨パッドが前記プラテン上にある場合において、前記研磨パッドの各光学開孔と各光学開孔に対応する前記プラテンの分離した位置とが光学的に結合するという位置関係である、研磨装置。
IPC (3件):
B24B 37/013 ( 201 2.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B24B 49/12 ( 200 6.01)
FI (3件):
B24B 37/013 ,  H01L 21/304 622 S ,  B24B 49/12
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 平面研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-189916   出願人:ニチデン機械株式会社, 日本電気株式会社
  • 生化学測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-218114   出願人:フルイドウェアテクノロジーズ株式会社, ペンタックス株式会社
  • 免疫反応測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-239055   出願人:スズキ株式会社
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審査官引用 (5件)
  • 平面研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-189916   出願人:ニチデン機械株式会社, 日本電気株式会社
  • 生化学測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-218114   出願人:フルイドウェアテクノロジーズ株式会社, ペンタックス株式会社
  • 免疫反応測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-239055   出願人:スズキ株式会社
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